信息来源：国家知识产权局国际合作司

　　6月7日，国知局局长田力普会见了以日本国际知识产权保护论坛主席、日本本田技研公司顾问宗国旨英为团长的日本知识产权保护官民联合高层访华团一行。

　　田力普局长首先对日本知识产权保护官民联合高层访华团一行的来访表示欢迎。会见中，田局长与宗国旨英先生一起回顾了双方以往的交流与合作，与野泽隆宽先生互相通报了两局各自的最新发展情况，双方就专利法修改、知识产权保护等问题交流了看法。田局长对日方关注中国知识产权保护状况表示理解，欢迎包括日本企业界在内的日本各界对中国专利法第三次修改及国家知识产权局的工作提出意见和建议，并表示这将有利于我国改善知识产权制度，也有利于完善和加强国家知识产权局的工作。田局长强调，中国政府高度重视知识产权保护，已经并将继续采取各种有效措施，把这项工作做得更好。会见中，田局长坦诚、开放、务实的讲话得到了在座日方代表的广泛赞许。双方确定，2006年将继续加强在知识产权领域的合作与交流，以进一步增进彼此的了解和互信。

　　日本国际知识产权保护论坛是日本最大的官民联合知识产权保护机构，由日本政府主管部门及其外围组织、知识产权相关团体以及180余家日本知名企业共同创建，在知识产权领域拥有较大影响和权威性。其以前一直以对我施压的姿态出现，从去年改为“协调和支援”的合作方针。

　　该访华团成员包括有日本贸易振兴机构理事长渡边修、松下电器公司副董事长古池进、佳能公司专务董事田中信义、经济产业省制造产业局次长平工奉文、日本特许厅总务部部长野泽隆宽等企业高级管理人员及政府高级官员。条法司尹新天司长、国际司吕国良司长、审业部张茂于副部长参加了会见。